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阿斯麦赢得台积电和三星承诺 新一代EUV光刻机获强力“护航”
📋总体概括
财联社9月8日讯(编辑 周子意) 荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)最新宣布,将与其主要客户合作,生产其最先进的光刻设备,用于开发由英伟达等公司设计的大型数据中心芯片。 9月8日,阿斯麦接连发布三条公告称,宣布与台积电、三星电子及英特尔推进下一代高数值孔径(High NA)极紫外光刻(EUV)技术应用。 其中,台积电计划自2030年起将阿斯麦High NA用于先进制程大规模生产;三星计
⚡关键信息
- ▸财联社9月8日讯(编辑 周子意) 荷兰光刻机制造商阿斯麦(ASML)最新宣布,将与其主要客户合作,生产其最先进的光刻设备
- ▸9月8日,阿斯麦接连发布三条公告称,宣布与台积电、三星电子及英特尔推进下一代高数值孔径(High NA)极紫外光刻(EU
- ▸其中,台积电计划自2030年起将阿斯麦High NA用于先进制程大规模生产;三星计划于2028年前首次将High NA用
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